21世纪经济报道记者 张赛男 上海报道 

一年一度的SEMICON China展近日在上海闭幕，但有关新凯来的讨论还远没有结束。

在这场全球最大规模半导体盛会上，新凯来成为最出圈的“人气王”，引发了产业内人士纷纷打卡。

新凯来对很多人而言是陌生的，但只要说起他国产半导体设备厂商的身份，即便是外行人，也能多多少少了解其含金量。因为这恰恰直击国产半导体产业链的痛点——设备是目前发展最为薄弱的环节之一。

而这家于2021年才成立的半导体设备厂商，在此次展会上竟然一口气演示了30余款设备，分为工艺装备、量检测装备两大系列，产品型号包括扩散产品、薄膜产品、光学检测产品、光学量测产品等，几乎覆盖半导体制造全流程装备，一时技惊四座。

在新凯来出圈后，市场纷纷猜测其来头。从股权关系看，新凯来是一家纯国企。企查查数据显示，新凯来成立于2021年8月，注册资本15亿元，由深圳市深芯恒科技投资有限公司100%持股，股权穿透后，由深圳市国资委全资控股。

这意味着，自诞生之初，新凯来就与国家战略高度契合，肩负打破半导体制造产业“卡脖子”的使命。

但在新凯来的走红中，仍然有一些让人费解的点。除了“自来水”的推波助澜，新凯来似乎也在主动走到聚光灯下，无论是展台面积之大，还是展出的产品数量之多，无疑都在体现这一点。

近年来，由于担心被外界关注和狙击，国内半导体企业都在传播上变得低调和谨慎，主动蛰伏，极少大声量传播最新技术和产品。新凯来为何反其道而行？

21世纪经济报道记者发现，在2024年12月，美国商务部公布对华半导体出口管制措施新规，在半导体设备限制上加码，将136个中国相关实体添加到“实体清单”，新凯来就赫然在列。

当时，在一众知名企业云集的半导体设备名单中，市场并未给予这家仅成立三年且未上市的新公司更多关注。

如果说是因为已被国外盯上，新凯来就顺势而为、大张旗鼓地进行宣传，这未免有些牵强。其后的深意恐怕是，在国资护航、技术底子深厚、产品正常出货的前提下，中国半导体设备厂商正在主动亮剑。

据其官网介绍，公司致力于半导体装备及零部件、电子制造设备的研发、制造、销售与服务。公司核心团队具备20年以上电子设备技术开发经验，并联合了众多国内半导体制造设备和零部件合作伙伴，为国内半导体设备厂、FAB厂、电子电器设备厂、研究机构提供先进的解决方案，相关产品广泛应用于国内顶级制造企业和研究、测试机构。

在其展示的众多设备产品中，刻蚀及薄膜产品最受欢迎。而这两大展台的持续火热，折射出半导体制造的难点：刻蚀精度决定芯片性能天花板，薄膜质量影响芯片的性能、可靠性和成本。

这些都显示出新凯来正在进行聚焦性地突破。

例如刻蚀设备“武夷山”系列，首批发布的三款产品包括12英寸精细介质刻蚀设备武夷山1号MASTER（电容耦合等离子体CCP干法刻蚀设备）、12英寸精细硅/金属刻蚀设备武夷山3号（电感耦合等离子体ICP干法刻蚀设备）以及12英寸高选择性刻蚀设备武夷山5号（自由基干法刻蚀设备）。这些设备针对不同的刻蚀工艺需求进行了优化设计，满足了先进节点各类精细刻蚀场景需求。

薄膜沉积设备“阿里山”系列有三款产品。其中，阿里山1号是12英寸高保形性介质薄膜原子层沉积设备，搭配五边形平台和Twin腔领先架构，覆盖先进逻辑/存储前中后段介质薄膜应用场景，满足图形化，超薄薄膜，超高深宽比gap fill需求，支持向未来先进节点演进。阿里山2号是12英寸介质刻蚀阻挡层薄膜沉积设备，3号则是12英寸高深宽比金属栅极原子层沉积设备，均支持向先进节点演进。

可作为参考的是，刻蚀设备龙头中微公司此前透露，公司开发的12英寸高端刻蚀设备已运用在国际知名客户最先进的生产线上并用于5纳米、5纳米以下器件中若干关键步骤的加工。

值得注意的是，尽管12英寸的硅晶圆已成为主流，且主要应用于先进的制程技术，但新凯来的设备究竟能应用在何种制程并未有公开消息。据媒体报道，有活动现场工作人员曾对外表示，其中一些机器（包括不在产品清单上的蚀刻工具）能够支持更先进制程的芯片生产。另外，市场上最关注的EUV光刻机产品，新凯来此次展品并未涉及。

新凯来已来，但ASML、美国应用材料等企业也在加速技术迭代。例如ASML关注到先进封装技术（如3D堆叠与2D封装）成为提升芯片密度和性能的重要手段，计划于今年推出一款名为XT:260的光刻系统，能显著提升性能并降低晶圆成本。

而就市场占有率而言，国产设备更有很长的路要走。在高端光刻机领域，ASML公司几乎垄断了全球市场。根据Gartner的数据显示，应用材料产品谱系最为全面，PVD设备独占85%细分市场份额；在ALD设备领域，2020年东京电子和ASM国际两家厂商合计占据了约60%的市场。

当然，新凯来在设备国产化的努力不容忽视。公司视频强调了新凯来“100%自主可控”的机器控制系统和操作软件，并大力宣传该公司内部开发或通过战略合作伙伴开发的“自主可控”关键部件。按照中微公司此前预告，公司的刻蚀设备也已经实现100%的元件国产替代。

需要指出的是，由于此次展示新凯来并未公布更具体的参数，所以还需要更多的数据和应用实况来进行评判。市场上也有观点认为，作为一家后起之秀，新凯来距离真正成熟商用还需要时间检验，同时新凯莱也要在竞争中走出差异化路线。

国产半导体设备被压制了太久，市场急盼有一个公司能带领行业进入DeepSeek时刻，而新凯来在某种程度上确实展露出这种实力，其走红便显得顺理成章。但半导体设备的研发并非一朝一夕之功，也仅非一家公司能逆转形势，需要更多的新凯来们继续拿下一个个山头，直到摘下人类工业皇冠上最后的一颗明珠“光刻机”。